天天滚动:ASML总裁宣布:EUV光刻机将称霸市场,DUV光刻机或面临淘汰!
ASML,全球领先的半导体制造设备供应商,近日在其年度财报发布会上宣布未来将大力推广EUV光刻技术。随着...
【资料图】
ASML,全球领先的半导体制造设备供应商,近日在其年度财报发布会上宣布未来将大力推广EUV光刻技术。
随着半导体工艺的不断升级,DUV(深紫外)光刻技术已经逐渐无法满足市场需求,而EUV(极紫外)光刻技术以其更加精密的制程和更高的生产效率,成为业界瞩目的焦点。因此,ASML也加快了EUV光刻设备的研发和生产进程。
在结束了2020财年的业绩报告后,ASML总裁彼得·休伯茨发表了一份声明,他表示:“我们的EUV光刻机已经面向市场,并有望在接下来的几年里取得更多收益。我们非常期待在未来的市场中,为客户提供更多创新的解决方案。”
根据ASML公布的数据,截至2020年12月底,其已经向全球46家客户出货了31台EUV光刻机,其中包括三星、英特尔、英伟达等世界一流半导体企业。此外,ASML还表示,2021年有望实现100%的增长,并计划将EUV光刻机产能提高至55台。
从这些数据可以看出,EUV光刻机已经成为ASML未来发展的主要方向之一,也为半导体行业提供了更高效、精准的制程解决方案。未来,随着EUV光刻技术的进一步普及和发展,相信半导体产业将迎来更加繁荣的发展。
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